Polarizační Filtr Cpl K&f Nano-x Mrc 43 mm 43 mm

Popis produktu

Polarizační filtr CPL NANO-X PRO MRC
Velikost filtru: 43 mm
FILTR NEJVYŠŠÍ KVALITY
URČENO PRO PROFESIONÁLY
FILTR S INOVATIVNÍMI NANOPOVLAKY
- HD – vysoké optické rozlišení použitého skla
- NANO-X PRO MRC – nano-antireflexní a ochranné vrstvy
- Super nízký profil typu SLIM (pouze 5 mm tloušťky)
- Velmi pevné a odolné hliníkové pouzdro Magnalium
- Součástí balení je pevné balení pro uložení filtru
MODEL: KF01.990 / 43 mm Nano X CPL
Produkt společnosti: K&F CONCEPT – nesporný lídr v oblasti kvality výroby fotografických filtrů.
Společnost K&F CONCEPT představuje vysoce kvalitní, profesionální polarizační filtry CPL . Jedná se o filtry nejvyšší kvality, málokteré filtry se jim vyrovnají kvalitou provedení a stupněm pokročilosti.
Filtr má až tucet nanopovlaků nanesených vrstveně na optické sklo.
Polarizační filtr je ideálním doplňkem zejména pro krajinářskou fotografii.
Polarizační filtr zvyšuje kontrast fotografií a sytost barev.
Filtr CPL eliminuje odlesky a odrazy nejen ze skleněných, ale i metalických povrchů. Díky tomu je možné provádět například fotografií přes sklo.
Polarizační filtr CPL propouští pouze světlo s lineární polarizací ve zvoleném směru. V důsledku toho filtr částečně pohlcuje rozptýlené světlo v atmosféře, což je patrné zejména při fotografování oblohy, která se stává tmavší a zároveň zachovává bílou barvu mraků.
Filtr CPL také umožňuje výrazné zlepšení sytosti barev neprůhledných povrchů (např. zeleně rostlin) a redukce odrazů od průhledných povrchů (např. vodní plochy nebo skla).
Vlastnosti filtru K&F CPL NANO-X PRO MRC:
- Vyrobeno z optického skla nejvyšší kvality, díky čemuž je přenos světla mnohem vyšší a dosahuje více než 99,9 %
- Filtr má speciální nanovrstvy, které zajišťují výrazné snížení odlesků a zlepšení pořízených fotografií.
- Filtr je také pokryt povlaky, které se vyznačují vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Povlaky výrazně usnadňují čištění filtrů a zabraňují nadměrnému přitahování prachu, pylu a jiných nečistot.
- Vynikající poměr kvality a ceny.
Filtr CPL NANO-X PRO MRC je určen pro všechny fotoaparáty a kamery s průměrem objektivu 43 mm.
Filtr je vhodný pro fotoaparáty s následujícími modely objektivů m.in:
Canon
- EF-M 22 MM 2.0 STM
- RF 50 mm F1.8 STM
- EF-M 32 mm f/1.4 STM
- EF-M 28 mm f/3.5 Macro IS STM
Fujifilm
- XF 35 mm f/2.0 R WR
SPECIFIKACE FILTRU:
- Vyrobeno z nejkvalitnějšího japonského optického skla
- Dvoustranně potažené 18vrstvou vrstvou (NANO-X PRO MRC) sklo
- Ochranná hydrofobní, protiolejová, protiprachová, protišpinivá, odolná proti poškrábání vrstva.
- Nemění barevnost záběru – je zcela neutrální
- Super tenký a lehký hliníkový rámeček typu SLIM o tloušťce pouhých 5 mm
- Velmi pevné a odolné hliníkové pouzdro Magnalium
- Nemá negativní vliv na práci systému AUTOFOCUS
- Pevná krabička na filtr je součástí balení
Super tenký a lehký hliníkový rámeček typu SLIM o tloušťce pouhých 5 mm
Filtr je pokryt povlaky, které se vyznačují vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Vynikající ochrana filtru i v těch nejnáročnějších podmínkách
Filtr má povlaky, které výrazně usnadňují čištění filtrů a zabraňují nadměrnému přitahování prachu, pylu a jiných druhů nečistot
Příklad použití filtru K&F CONCEPT CPL NANO-X PRO MRC
Pozor! Fotoaparáty, objektivy, stativy a další doplňkové příslušenství zobrazené na fotografiích plní pouze náhledovou roli a nejsou předmětem prodeje.
Produkt je zcela nový a je v originálním balení.
Kód produktu (SBkod): SB7460