Polarizační Filtr Cpl K&f Concept Nano-x Ultra-Low Reflection 58 mm 58 mm
Popis produktu
Polarizační filtr CPL NANO-X
Ultra-Low Reflection
Velikost filtru: 58 mm
FILTR NEJVYŠŠÍ KVALITY
URČENO PRO PROFESIONÁLY
FILTR S INOVATIVNÍMI NANOPOVLAKY
- Velmi nízký koeficient odrazivosti 0,1 %, eliminuje 99,9 % polarizovaného světla a má velmi vysokou propustnost
- Nová technologie povlakování titanem účinně eliminuje případné zežloutnutí obrazu
- Ultra HD – vysoké optické rozlišení použitého skla
- 28 Nano antireflexních a ochranných vrstev
- Super nízký profil typu SLIM (pouze 5.3 mm tloušťky)
- Velmi pevné a odolné pouzdro z hliníkovo-hořčíkové slitiny
- Součástí balení je pevné balení pro uložení filtru
Produkt společnosti: K&F CONCEPT – nesporný lídr v oblasti kvality výroby fotografických filtrů.
MODEL: KF01.2476 / 58 mm Nano X CPL Ultra Low Reflection
Společnost K&F CONCEPT představuje vysoce kvalitní, profesionální polarizační filtry CPL . Jedná se o filtry nejvyšší kvality, málokteré filtry se jim vyrovnají kvalitou provedení a stupněm pokročilosti.
Filtr má až několik desítek nanopovlaků nanesených vrstveně na optické sklo.
Polarizační filtr je ideálním doplňkem zejména pro krajinářskou fotografii.
Polarizační filtr zvyšuje kontrast fotografií a sytost barev.
Filtr CPL eliminuje odlesky a odrazy nejen ze skleněných, ale i metalických povrchů. Díky tomu je možné provádět například fotografií přes sklo.
Polarizační filtr CPL propouští pouze světlo s lineární polarizací ve zvoleném směru. V důsledku toho filtr částečně pohlcuje rozptýlené světlo v atmosféře, což je patrné zejména při fotografování oblohy, která se stává tmavší a zároveň zachovává bílou barvu mraků.
Filtr CPL také umožňuje výrazné zlepšení sytosti barev neprůhledných povrchů (např. zeleně rostlin) a redukce odrazů od průhledných povrchů (např. vodní plochy nebo skla).
Vlastnosti filtru K&F CPL NANO-X PRO MRC:
- Vyrobeno z optického skla nejvyšší kvality, díky čemuž je přenos světla mnohem vyšší a dosahuje více než 99,9 %
- Filtr má speciální nanovrstvy, které zajišťují výrazné snížení odlesků a zlepšení pořízených fotografií.
- Filtr je také pokryt povlaky, které se vyznačují vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Povlaky výrazně usnadňují čištění filtrů a zabraňují nadměrnému přitahování prachu, pylu a jiných nečistot.
- Vynikající poměr kvality a ceny.
Filtr je určen pro všechny fotoaparáty a kamery s průměrem objektivu 58 mm.
Filtr je vhodný pro fotoaparáty s následujícími modely objektivů m.in:
Nikon:
- AF-S DX NIKKOR 55-300 mm f/4,5-5,6G ED VR
- AF-S NIKKOR 50 mm f/1,4G
- NIKKOR AF-S 50 mm f/1,8G
Canon:
- EF-S 18-55 mm f/3.5-5.6 IS STM
- EF-S 18-55 mm f/3.5-5.6 IS II
- EF 24 mm f/2.8 IS USM
- EF 28 mm f/1.8 USM
- EF 28 mm f/2.8 IS USM
- EF 50 mm f/1.4 USM
- EF 85 mm f/1.8 USM
- TS-E 90 mm f/2.8
- EF 100 mm f/2 USM
- EF 100 mm f/2.8 Macro USM
- EF-S 55-250 mm f/4-5.6 IS
- EF 70-300 mm f/4-5.6 IS USM
- EF 70-300 mm f/4.5-5.6 DO IS USM
- EF 75-300 mm f/4-5.6 III
- EF 75-300 mm f/4-5.6 III USM
Olympus:
- M.ZUIKO DIGITAL ED 40-150 mm 1:4.0-5.6 R
- M.ZUIKO DIGITAL ED 14-150 mm 1:4.0-5.6
- M.ZUIKO DIGITAL ED 75 mm 1:1.8
- M.ZUIKO DIGITAL ED 75-300 mm 1:4.8-6.7
- M.ZUIKO DIGITAL ED 75-300 mm 1:4.8-6.7 II
- ZUIKO DIGITAL ED 70-300 mm 1:4.0-5.6
Pentax:
- SMC Pentax-DA* 55 mm F1.4 SDM
- SMC Pentax-DA 55-300 mm F4-5.8 ED
- SMC Pentax-DA L 55-300 mm F4-5.8 ED
Sigma:
- 70-300 F4-5.6 DG MAKRO
- 70-300 F4-5.6 APO DG MACRO
Panasonic:
- LUMIX G X VARIO 12-35 mm / F2.8 ASPH. Lens
Samsung:
- 18-55 mm F 3.5-5.6 OIS Lens S1855SB
SPECIFIKACE FILTRU:
- Vyrobeno z nejkvalitnějšího japonského optického skla
- Dvoustranně potažené 28vrstvou vrstvou (NANO-X) sklo
- Ochranná hydrofobní, protiolejová, protiprachová, protišpinivá, odolná proti poškrábání vrstva.
- Nemění barevnost záběru – je zcela neutrální
- Supertenký a lehký hliníkový rámeček typu SLIM o tloušťce pouhých 5.3 mm
- Nemá negativní vliv na práci systému AUTOFOCUS
- Pevná krabička na filtr je součástí balení
- Filtr má povlaky, které výrazně usnadňují čištění filtrů a zabraňují nadměrnému přitahování prachu, pylu a jiných druhů nečistot
- Filtr je pokryt povlaky, které se vyznačují vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Vynikající ochrana filtru i v těch nejnáročnějších
Specifikace
- Stav: new
- Typ produktu:Elektronika > Fotografování > Příslušenství > Filtry
- GTIN/EAN: 06942052515825
Historie cen
Dostupné v dalších obchodech
Polarizační Filtr Cpl K&f Concept Nano-x Ultra-Low Reflection 58 mm 58 mm
Dostupnost: in stock
K&f Polarizační Cpl filtr 58 mm Ultra Low Reflection Mrc Nano-x 8k Pro
Dostupnost: in stock
Polarizační filtr K&f Concept 58 mm Mrc Cpl Nano-X
Dostupnost: in stock
K&f Polarizační Cpl filtr 58 mm Ultra Low Reflection Mrc Nano-x 8k Pro
Dostupnost: in stock
Polarizační Filtr Cpl K&f Concept Nano-x Ultra-Low Reflection 58 mm 58 mm
Dostupnost: in stock