Uv Filtr Ultra Low Reflection K&f Concept Nano-x Mrc 62 mm

Uv Filtr Ultra Low Reflection K&f Concept Nano-x Mrc 62 mm
690,00 CZK
Nejnižší cena
info
Nízká Vysoká
Průměrná cena 702,33 CZK
🔥 Aktuálně nejnižší cena v historii!

Značka: k&f concept

Dostupnost: in stock

Poslední aktualizace: před 10 hodinami

Sledujeme od: Oct 7, 2025

Popis produktu

UV ultrafialový filtr NANO-X MRC
Ultra-Low Reflection
Velikost filtru: 62 mm
FILTR NEJVYŠŠÍ KVALITY
URČENO PRO PROFESIONÁLY
FILTR S INOVATIVNÍMI NANOPOVLAKY
- Velmi nízký koeficient odrazivosti 0,1 %, eliminuje 99,9 % polarizovaného světla a má velmi vysokou propustnost
- Nová technologie povlakování titanem (titanová vrstva) účinně eliminuje případné zežloutnutí obrazu
- Filtr zabraňuje odleskům a podsvícení a zajišťuje bezchybnou ostrost obrazu
- Ultra HD – vysoké optické rozlišení použitého skla
- 28 Nano antireflexních a ochranných vrstev
- Super nízký profil typu SLIM (pouze 3,3 mm tloušťky)
- Prsten je vyroben z galvanicky černěného hliníku
- Součástí balení je pevné balení pro uložení filtru
Produkt firmy: K&F CONCEPT – nesporný lídr v oblasti kvality výroby fotografických filtrů
MODEL: KF01.2464 / 62 mm NANO X UV Ultra Low Reflection
Společnost K&F CONCEPT představuje vysoce kvalitní a profesionální UV filtry. Jedná se o filtry nejvyšší kvality, málokteré filtry se jim vyrovnají kvalitou provedení a stupněm pokročilosti.
Filtr má až několik desítek nanopovlaků nanesených vrstveně na optické sklo.
Ultrafialový filtr UV absorbuje ultrafialové záření a odděluje záření, které se vyskytuje v nejvyšší intenzitě v podmínkách, kde je vzduch mimořádně průhledný (zejména v horách a u moře), a které na fotografii způsobuje efekt zamlžení.
Filtr UV NANO-X MRC nejen zlepšuje kvalitu fotografií, ale je také vynikající ochranou objektivu před všemi druhy pylu, tuků, prachu a mechanickým poškozením.
Vlastnosti filtru K&F UV NANO-X MRC:
- Vyrobeno z optického skla nejvyšší kvality, díky čemuž je přenos světla mnohem vyšší a dosahuje více než 99,9 %
- Filtr má speciální nanovrstvy, které zajišťují výrazné snížení odlesků a zlepšení pořízených fotografií.
- Filtr je také pokryt povlaky, které se vyznačují vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Povlaky výrazně usnadňují čištění filtrů a zabraňují nadměrnému přitahování prachu, pylu a jiných nečistot.
- Vynikající poměr kvality a ceny.
UV filtr NANO-X MRC je určen pro všechny fotoaparáty a kamery s průměrem objektivu 62 mm.
Filtr je vhodný pro fotoaparáty s následujícími modely objektivů m.in:
Nikon:
- 20 mm f/2,8D AF NIKKOR
- 60 mm f/2,8G ED AF-S Micro NIKKOR
- 60 mm f/2,8D AF Micro NIKKOR
- 85 mm f/1.8D AF NIKKOR
- 105 mm f/2,8G AF-S VR Micro NIKKOR
- 200 mm f/4D ED-IF AF Micro NIKKOR
Sony:
- SEL-1018
- SAL-16105
- SAL-18135
- SAL-18250
- SAL-18200
- SAL-1680Z
- SAL-55300
- SAL-70300G
Sigma:
- 30 F1.4 EX DC HSM
- 105 F2.8 APO EX DG OS HSM MACRO
- 18-250 F3.5-6.3 DC OS HSM MACRO
- 18-250 F3.5-6.3 DC OS HSM MACRO
- 18-200 F3.5-6.3 II DC OS HSM
- 70 F2.8 EX DG MACRO
- 70-300 F4-5.6 DG OS
Pentax:
- SMC Pentax-DA 18-135 mm F3.5-5.6 ED AL [IF] DC WR
- SMC Pentax-DA 18-250 mm F3.5-6.3 ED AL [IF]
- SMC Pentax-DA 18-270 mm F3.5-6.3 ED SDM
- SMC Pentax-DA* 50-135 mm F2.8 ED [IF] SDM
Tamron:
- AF 18-200 mm F/3.5-6.3 XR Di II LD
- AF 18-250 mm F/3.5-6.3 Di II LD
- AF 18-270 mm F/3.5-6.3 Di II VC PZD
- AF 28-200 mm F/3.8-5.6 Asférický XR Di [IF] Makro
- AF 28-300 mm F/3.5-6.3 XR Di LD Asférický [IF] Makro
- 70-300 mm F 4-5.6 VC Di USD
Olympus:
- ZUIKO DIGITAL ED 18-180 mm 1:3.5-6.3
Panasonic:
- Lumix G VARIO HD 14-140 mm / F4.0-5.8 ASPH. / MEGA O.I.S. Lens
SPECIFIKACE FILTRU:
- Vyrobeno z nejkvalitnějšího japonského optického skla
- NANO-X MRC – nano-antireflexní a ochranné vrstvy
- Nemění barevnost záběru – je zcela neutrální
- Supertenký a lehký hliníkový rámeček typu SLIM[TAG_CLOSE_A] o tloušťce pouhých 3,3 mm
- Titanová povrchová úprava
- Nemá negativní vliv na práci systému AUTOFOCUS
- Pevná krabička na filtr je součástí balení
- Filtr je pokryt povlaky, které se vyznačují vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Vynikající ochrana filtru i v těch nejnáročnějších podmínkách
- Filtr má povlaky, které výrazně usnadňují čištění filtrů a zabraňují nadměrnému přitahování prachu, pylu a jiných druhů nečistot
Součástí balení jsou:
- 1 x filtr
- 1x pevné, pevné balení zabraňující poškrábání, poškození a usnadňující přepravu filtru
Příklad použití filtru K&F CONCEPT NANO-X MRC
Pozor! Fotoaparáty, objektivy, stativy a další doplňkové příslušenství

Specifikace

Historie cen

Dostupné v dalších obchodech